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三星宣布3nm芯片成功流片 規(guī)?;慨a(chǎn)時(shí)間節(jié)點(diǎn)臨近

  6月29日晚間消息,據(jù)外媒報(bào)道,三星宣布,3nm制程技術(shù)已經(jīng)正式流片。據(jù)介紹,三星的3nm制程采用的是GAA架構(gòu),性能優(yōu)于臺(tái)積電的3nm FinFET架構(gòu)。(新浪科技)

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